CVI (Chemical Vapor Infiltration)
ECVI Series (ENERGYN Chemical Vapor Infiltration)
에너진(주)의 ECVI 시리즈는 다양한 형상을 갖는 C-SiC Composite의 제조, C, C-SiC의 고순화 처리를 위한
장비입니다. 일반적인 CVD장비가 표면에만 코팅되는 것과는 달리, 인위적인 열구배를 통해 생산하려는 프리폼
소재 내부에서부터 CVD반응에 의해 침착됨으로써 상당한 두께를 가지는 치밀한 제품을 얻을 수 있습니다.
※ 본 장비는 C/C, RBSC(Reaction Bonded Silicon Carbide) 생산 설비 등으로도 응용할 수 있습니다.
Represent Model Specs (ETGCVI-350)
ETGCVI-350 유효공간 (Hot zone, 최대 제품치수) Dia350 x 500H mm, 수직형 제 품 구 동 회전(~10rpm) 및 상하 이송(~5mm/min, st500mm) 열 원 고주파유도가열(IGBT, 250kW, ~20kHz) TG CVI Reactor Quatz Tube SiC source MTS(methyltrichlorosilane) Vaporizer 설 비 온 도 최대 1,900℃, 상용1,300℃ (Option 최대 3,000℃) 도 달 진 공 도 5x10E-4 torr 상용 압력범위 10~100torr(CDG 측정) 투입가스 제어 4 chanel MFC 배기가스 제어 유량조절 진공밸브 배 기 장 치 내화학 진공펌프 유니트 제 어 방 법 SCADA, HMI 유해 가스 검출 장치 Cl, HCl 디텍터 적용
에너진(주)는 고객이 원하는 사양의 장비 및 Processing Solution을 제공합니다.
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